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近日，荷蘭相關(guān)部門(mén)宣布，對(duì)部分先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施新的出口管制措施，此舉明顯針對(duì)中國(guó)，而直接影響就是中國(guó)獲得荷蘭ASML公司的DUV光刻機(jī)也更為困難。

這個(gè)事情肯定是在美國(guó)的鼓搗下進(jìn)行的，美國(guó)近年來(lái)一直拉攏荷蘭、日本形成一個(gè)“芯片聯(lián)盟”，以此來(lái)壓制中國(guó)芯片領(lǐng)域發(fā)展。目前來(lái)看，美國(guó)的陰謀正一步步得逞，日本已在今年5月正式出臺(tái)了關(guān)于半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制措施。日本方面給出的理由是“為了與美國(guó)合作，防止這些技術(shù)流向中國(guó)，從而被用作軍事用途”。而荷蘭這次給出的理由居然與日本一樣，荷蘭貿(mào)易部長(zhǎng)施萊納馬赫聲稱，這些設(shè)備可能用于生產(chǎn)軍事器材，“為了維護(hù)國(guó)家安全，我們決定采取這項(xiàng)措施?！?/p>

荷蘭究竟干了什么呢？其實(shí)就是要求荷蘭公司出口光刻機(jī)時(shí)必須獲得許可證，才能把有關(guān)設(shè)備賣到海外。

全球最大的光刻機(jī)巨頭、荷蘭ASML公司表示，預(yù)計(jì)它的第二先進(jìn)等級(jí)的DUV光刻機(jī)也需要出口許可證。這些設(shè)備用于制造電腦芯片。

荷蘭已經(jīng)禁止ASML公司對(duì)中國(guó)出售EUV光刻機(jī)和部分浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)。所謂浸沒(méi)式光刻機(jī)，屬于193nm（光源）光刻機(jī)（分為干式和浸沒(méi)式），可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造。

ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款之前已被禁止。

據(jù)報(bào)道，ASML的四個(gè)浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)中的三個(gè)將受到新規(guī)則的限制。根據(jù)波長(zhǎng)劃分，DUV設(shè)備有四種產(chǎn)品序列，分別為ArFi、ArF、KrF、i-line，最高端的是ArFi，這也是ASML目前被主要限制的DUV光刻機(jī)范疇。ArFi、ArF屬于第四代光源技術(shù)，波長(zhǎng)為193nm，采用浸潤(rùn)技術(shù)，但這中國(guó)將買不到這種浸潤(rùn)式光刻機(jī)，因?yàn)槊绹?guó)和荷蘭認(rèn)為這些浸潤(rùn)式光刻機(jī)可以用于制造小于28納米的芯片。

新措施定9月1日生效這對(duì)中國(guó)來(lái)說(shuō)是一道分水嶺，今后中國(guó)將更難買到荷蘭ASMK公司的光刻機(jī)了。

（責(zé)任編輯：韓麗）

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